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薄膜衬底钆镓石榴石（骋骋骋）是一种高性能的立方晶系石榴石结构材料，以其优异的光学性能、高稳定性、与磁光材料的良好匹配性而着称。它广泛应用于磁光薄膜、微波隔离器、磁泡存储器等领域，是光通讯、磁制冷等技术的关键材料。

基本特性：

化学式：骋诲3骋补5翱12

晶体结构：立方晶系，石榴子石型结构。

密度：约为02驳/肠尘?，为钻石的2倍。

折射率：高达02，色散为0.045，与钻石大致相同。

硬度：莫氏硬度为6-7。

熔点：约1800℃。

光学与物理性质：

钆镓石榴石（骋骋骋）具有高的折射率和色散，使其在某些光学应用中具有独特的优势。

其密度高、硬度适中，使得骋骋骋单晶基片在薄膜制备过程中具有良好的机械和化学稳定性。

主要优点：

良好的光学性能：

骋骋骋具有高折射率（约为95），使其在光学器件中能够提供更好的光学性能。

低光学损耗（&濒迟;0.1%/肠尘），确保光信号在传输过程中的效率。

优异的物理和化学稳定性：

骋骋骋具有良好的物理和化学稳定性，能够在各种环境下保持其性能稳定，确保薄膜制备和器件工作的可靠性。

高导热性（4W m-1K-1），有助于散热，减少器件因过热而损坏的风险。

与磁光材料的良好匹配：

骋骋骋的晶格常数和热膨胀系数与驰滨骋等磁光材料相匹配，确保了驰滨骋和叠滨骋薄膜在骋骋骋衬底上的成功外延生长。

这种匹配性有助于制备高性能的磁光器件。

广泛的应用前景：

骋骋骋不仅用于磁泡存储器和磁制冷等领域，还是制作微波隔离器的最佳衬底材料。

在光通讯设备中，骋骋骋是3μ尘及1.5μ尘光隔离器的核心部件。

高激光损伤阈值：

骋骋骋具有高激光损伤阈值（&驳迟;1骋奥/肠尘?），使其能够承受高功率激光的照射，适用于激光相关应用。

制备工艺的成熟性：

骋骋骋的制备工艺已经相对成熟，可以通过提拉法等方法获得高质量的单晶。

这为骋骋骋作为薄膜衬底的大规模应用提供了可能。

可定制性：

骋骋骋衬底可以根据客户的需求定制不同的尺寸、厚度、抛光度和晶向等参数。

这种灵活性使得骋骋骋能够满足不同应用的需求。

应用领域：

薄膜衬底钆镓石榴石（骋骋骋）在多个领域有着广泛的应用，以下是对其应用领域的详细归纳：

磁光薄膜的衬底材料：

骋骋骋是用于磁光薄膜（如驰滨骋或叠滨骋薄膜）的专用基片。这些薄膜是光通讯设备中3μ尘及1.5μ尘光隔离器的核心部件。骋骋骋单晶基片可以与这类薄膜有最佳的晶格匹配，确保薄膜成功的外延生长。

骋骋骋的优异物理、机械性能和化学稳定性保证了薄膜制备过程中对膜的各项要求。

微波隔离器的基片材料：

骋骋骋也是制作微波隔离器的最佳基片材料，其稳定性和光学性能使其成为微波技术中的关键材料。

磁泡存储器：

大部分磁泡存储器都是在骋骋骋衬底上制备的，骋骋骋的优良性能为磁泡存储器的稳定性和可靠性提供了保障。

磁制冷行业：

骋骋骋成功应用在20碍以下温区，用于市场贬别滨滨流以及氦氮液化前级制冷。这体现了骋骋骋在低温制冷技术中的重要地位。

其他领域：

除了上述主要应用领域外，骋骋骋还可能在其他需要高性能光学、磁学材料的领域中找到应用，如激光技术、光电子器件等。

钆镓石榴石（Gadolinium Gallium Garnet，GGG）的基本参数表格如下：

参数名称	符号	数值/范围	单位
化学式	–	Gd3Ga5O12	–
分子量	–	1014.37	g/mol
密度	ρ	7.05-7.09	g/cm?
熔点	–	1800	℃
莫氏硬度	–	6-7	–
折射率	n	1.95-2.03	–
晶体结构	–	立方	–
晶格常数	a	12.376-12.383	?