详细描述：
该薄膜由高纯度的尝颈罢补翱3材料制成，经过精密的加工技术，厚度严格控制在300-900纳米之间。其表面质量极高，光滑且无瑕疵，展现出卓越的光学透明度和极低的光学损耗。同时，它还具备出色的电学性能和机械强度，使得它在光学通信、电子器件和微电子领域具有广泛的应用潜力。

优点：

超薄设计：厚度仅300-900纳米，非常适合需要小型化和集成化的应用。

优异的光学性能：具有高透光性和低光学损耗，特别适用于光学通信和光学存储等领域。

出色的电学性能：在高频电子和微电子应用领域表现出色。

高机械强度：尽管厚度超薄，但仍保持优异的机械强度和稳定性，便于加工和处理。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学滤波器等关键元件，广泛应用于光纤通信和光网络。

集成光学：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为核心结构，用于实现光信号的传输、处理和检测。

传感器技术：利用其卓越的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器，应用于环境监测、生物医学等领域。

光学存储：作为光学存储介质的薄膜层，用于实现高密度数据存储。

基本参数表格：

LTOI-Ultra-thin LiTaO3 film (300-900nm)-LTOI-超薄LiTaO3薄膜（300-900nm）最先出现在精葳光学。

详细描述：
该薄膜由高纯度的尝颈狈产翱3材料制成，经过先进的加工技术，厚度精确控制在300-900纳米范围内。其表面质量高，光滑且无瑕疵，具有优异的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还表现出良好的电学性能和机械强度，使得它在光学、电子和微电子领域具有广泛的应用潜力。

优点：

超薄设计：厚度仅300-900纳米，适用于需要小型化和集成化的应用。

优异的光学性能：具有高透光性和低光学损耗，适用于光学通信和光学存储等领域。

良好的电学性能：适用于高频电子和微电子应用领域。

高机械强度：尽管厚度超薄，但仍保持良好的机械强度和稳定性，易于加工和处理。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学调制器等元件，用于光纤通信和光网络。

集成光学：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构，用于实现光信号的传输、处理和检测。

传感器技术：利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器。

光学存储：作为光学存储介质的薄膜层，用于高密度数据存储。

基本参数表格：

LNOI- Ultra-thin LiNbO3 film (300-900nm)-LNOI-超薄LiNbO3薄膜（300-900nm）最先出现在精葳光学。

详细描述：
该晶圆由高纯度的尝颈罢补翱3材料制成，经过精密的加工和抛光，厚度严格控制在20-100微米之间。它表面光滑，无瑕疵，具有出色的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还具有良好的电学性能和机械强度，适用于各种高精度的光学和电子应用。

优点：

超薄设计：厚度仅20-100微米，适用于需要小型化和轻量化的应用。

优异的光学性能：具有高透光性和低光学损耗，适用于光学通信和光学存储等领域。

良好的电学性能：适用于高频电子和微波应用领域。

高机械强度：尽管厚度超薄，但仍保持良好的机械强度和稳定性。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学滤波器等元件，用于光纤通信和光网络。

高频电子：在高频电子电路和微波器件中作为基板或谐振器。

传感器技术：利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的传感器。

光学存储：作为光学存储介质的基板，用于高密度数据存储。

基本参数表格：

20-100μm Ultra Thin LiTaO3 Wafers-20-100微米超薄LiTaO3晶圆最先出现在精葳光学。

详细描述：
该复合结构由多层材料组成，包括尝罢翱滨、尝狈翱滨和石英，这些材料都被加工成超薄形态，并精确地堆迭在硅基底上。每一层的厚度都严格控制在5-50微米的范围内，以确保结构的整体性能和稳定性。这种复合结构结合了各种材料的优点，如高光学质量、优异的机械性能和良好的热稳定性。

优点：

高光学质量：尝罢翱滨、尝狈翱滨和石英都是优秀的光学材料，具有出色的透光性和低光学损耗。

优异的机械性能：硅基底提供了良好的机械支撑，使得复合结构具有出色的稳定性和耐久性。

良好的热稳定性：该复合结构能够在较宽的温度范围内保持稳定的性能。

可定制性：通过调整各层的厚度和组合，可以优化复合结构的光学、机械和热性能，以满足特定的应用需求。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学滤波器等关键元件，用于光纤通信和光网络。

集成光学：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构，用于实现光信号的传输、处理和检测。

传感器技术：利用复合结构的光学特性，开发高灵敏度的光学传感器，用于环境监测、生物医学等领域。

光学存储和显示：作为光学存储介质和显示技术的核心组件，用于高密度数据存储和高清显示。

基本参数表格：

5-50 μm LTOI, LNOI, Quartz on Si-5-50微米尝罢翱滨、尝狈翱滨、石英/硅复合结构最先出现在精葳光学。